Atšķirīgais plānas plēves rezistoru tehnoloģijas process, kas ietver keramikas pamatnes rūpīgu pārklājumu ar metālisku slāni, kura biezums dejo no 50 līdz 250 nanometriem, atklāj tā sarežģītību.Izmantojot progresīvas vakuuma vai izsmidzināšanas paņēmienus, šī metode nodrošina vienmērīgu metāla slāņa biezumu ar precīzu kontroli.Plāni plēves rezistori, kas ir pretstatā kolēģiem - vīļu vai beztaras metāla folijas rezistoriem - par to, ka viņu ārkārtas izturība uz laukuma vienību.Šis augstākas pretestības vērtību sajaukums ar izmaksu efektivitātes amatniecības plāniem plēves rezistoriem gan ekonomiskā, gan kompaktā šķīdumā, ideāli piemērots augstas pretestības prasībām un mērenām precizitātes prasībām.
Plāno plēvju rezistoru projektēšanas centrā ir būtisks apsvērums par temperatūras ietekmi uz to funkcionalitāti.Optimālas jutīguma meklējumi ir precējušies ar piemērotu filmas biezuma izvēli - lēmumu, kas saistīts ar izaicinājumiem.Tas ierobežo pretestības vērtību spektru, kas paredzēts savās rīcībā.Šī pretestības vērtību diapazona paplašināšanās, vienlaikus paplašinot plānu plēvju rezistoru lietderību, sēj stabilitātes mainīguma sēklas, īpaši laika gaitā.Šo nestabilitāti baro ķīmiskās un mehāniskās novecošanās parādības, ieskaitot nerimstošo rezistences sakausējumu oksidāciju ar augstu temperatūru.
Turklāt plāniem plēves rezistoriem ar to raksturīgajām īpašībām noteiktos apstākļos ir nosliece uz degradāciju.Viņu minimālais metāla saturs padara tos īpaši jutīgus pret paškoroziju, saskaroties ar mitrumu.Iekapsulēšanas process, kas ir potenciāls ūdens tvaiku aizsprostojums, var pārcelt piemaisījumus, aizdedzinot ķīmisko koroziju.Šis drauds dažu stundu laikā var izraisīt ķēdes kļūmi zemsprieguma līdzstrāvas vidē.Arī TCR (temperatūras koeficienta) stabilitāte tiek ietekmēta plēves biezuma izvēles ietekmē.Plānāki slāņi, kas ir neaizsargātāki pret oksidāciju, paātrina augstvērtīgu plānu plēvju rezistoru noārdīšanos, ēnas liešanu uz to ilgtermiņa uzticamību.